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原子層堆積市場調査ー製品タイプ別(金属ALD、酸化アルミニウムALD、プラズマ強化ALD、触媒ALDなど)。タイプ別(前駆体タイプ、材料タイプ、フィルムタイプなど)、用途別(半導体&エレクトロニクス(ソーラーパネル、ディスプレイパネル、燃料電池、熱電材料)医療機器、研究開発施設、その他));地域によってセグメンテーション-グローバルな需要分析および機会の見通し2027年

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レポート: 1519 | 公開日: May, 2022

原子層堆積市場調査、規模、傾向のハイライト(予測2019-2027年)

原子層堆積(ALD)は、任意の基板上に薄膜を堆積させるための表面制御プロセスと呼ばれる。プロセス中に、化学物質の数は、一連のステップを介して材料の表面と反応するように作られる。この反応により、基板の表面に薄膜が作成され、ディスプレイデータストレージデバイスや小型電子部品など、フィルムの厚さが絶対に必要な製品に使用されます。ALDを使用して、堆積層は、材料または製品に応じて制御された方法で作成することができる。ここ数年、ナノテクノロジーとマイクロエレクトロニクスの分野で行われている業界の専門家によるかなりの研究が行われています。

原子層堆積は、母材の表面積が非常に小さいような用途に最適な堆積方法である。これらの利点にもかかわらず、原子層堆積は、主に関与するコストのために、物理蒸着などの他の従来の堆積方法ほど一般的ではない。この装置は、他の標準的な堆積装置よりもかなり高価である。さらに成膜に必要な基板材料も高価である。世界中の医療分野でのALDの採用の増加は、予測期間(2019-2027)に市場の成長を加速させると予測されています。

市場規模と予測

原子層堆積市場は、予測期間中に約17.55%のCAGRを記録すると予想されています。市場は、金属ALD酸化アルミニウムALDプラズマ強化ALD触媒ALDなどに製品タイプによってセグメント化されています。前駆体タイプの材料タイプフィルムタイプなどへのタイプ別;半導体・エレクトロニクス(太陽電池ディスプレイパネル、燃料電池熱電材料)、医療機器研究開発施設等への応用により。 半導体セグメントは、電気回路エレクトロニクスマイクロプロセッサおよびトランジスタへの幅広い用途により、最大の市場シェアを獲得すると予測されています。


地域別

地域分析に基づいて、ALD市場は北米ヨーロッパ、アジア太平洋ラテンアメリカ、中東&アフリカ地域を含む5つの主要地域に分かれています。アジア太平洋地域は、半導体エレクトロニクス医療機器産業やソーラー部門などの最終用途企業からの需要の高まりにより、原子層堆積市場で最大の市場シェアを獲得すると予想されています。先端技術の利用可能性と研究開発の増加により、アジア太平洋地域は2027年までに大きな収益シェアを占めると予想されています。

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サンプル納品物ショーケース

Sample deliverables

調査競合他社と業界リーダー

過去のデータに基づく予測

会社の収益シェアモデル

地域市場分析

市場傾向分析

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市場セグメンテーション

原子層堆積市場の詳細な分析には、以下のセグメントが含まれます。

製品タイプ

  • 金属ALD
  • 酸化アルミニウムALD
  • プラズマ強化ALD
  • 触媒性ALD
  • 余人

タイプ別

  • 前駆体タイプ
  • 材料タイプ
  • フィルムタイプ
  • 余人

アプリケーション別

  • 半導体とエレクトロニクス
  • ソーラーパネル
  • ディスプレイパネル
  • 燃料電池
  • 熱電材料
  • 医療機器
  • 研究開発施設
  • 燃料電池
  • オプティカル
  • 熱電材料
  • 余人

原子層堆積市場は、地域に基づいて次のようにさらに分類されます。

  • 北米(米国とカナダ)市場規模前年比成長率と機会分析
  • ラテンアメリカ (ブラジル、メキシコ、アルゼンチン、その他のラテンアメリカ)市場規模前年比成長率と機会分析
  • 欧州 (イギリス ドイツ フランス イタリア スペイン ハンガリー ベルギー オランダ・ルクセンブルク 北欧 ポーランド トルコ ロシア その他のヨーロッパ)市場規模前年比成長率と機会分析
  • アジア太平洋(中国、インド、日本、韓国、インドネシア、マレーシア、オーストラリア、ニュージーランド、アジア太平洋地域のその他)市場規模の前年比成長と機会分析。
  • 中東/アフリカ(イスラエルGCC(サウジアラビア、UAE、バーレーン、クウェート、カタール、オマーン)、北アフリカ、南アフリカ、その他の中東およびアフリカ)市場規模:前年比成長と機会分析


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成長の原動力

非および(NAND)ストレージの需要

3D NANDなどの新技術は、NANDストレージの需要の高まりとともに開発されており.3D NANDはメモリ構造の層の多層スタッキングにより、より高いストレージ容量を提供します。したがって、ALDシステムは、基板上にいくつかの制御された正確な層を堆積させて積層構造を提供し、それによってその貯蔵容量を増加させるための3D NANDの製造に役立つ。したがって、ALDは、3D NANDシステム用の二電フィルムを作成するために使用されます。さらに、NANDストレージに対する需要の増加は、予測期間中にALD市場の成長を促進すると予想されます。

 高効率

その優れた出力と最速の表面反応速度により、プラズマエンハンスド-ALD(PEALD)は最も急成長している製品タイプであると予想されます。ALDは表面敏感な堆積プロセスです。PEALDは、核生成を変化させるプラズマ曝露による表面の改質を増加させる。PEALDフィルムは、並外れた平坦性と均一性を備えた超薄型フィルムです。世界の大手企業は、主に新しい高品質で高性能な誘電体材料を提供することに注力しています。複雑な半導体部品であってもコンフォーマル層を格納する高効率により、市場は予測期間中に大幅に成長すると予想されます。原子層堆積は、半導体デバイスの製造において重要なプロセスであり、ナノ材料合成において主要な役割を果たす 。薄いコンフォーマルフィルムを製造するためのこの方法は、重要な堆積方法の1つとみなされる。複雑で小型化されたコンポーネントに対するナノサイエンスの出現に関連する需要は、ALD市場を後押しすると予測されています。

拘束

ALDシステムの高コスト

ALDシステムの高コストのために、ALDシステムを提供する市場のベンダーも技術への投資を削減しました。このため、半導体メーカーは、CVDシステムなどの代替品をALDシステムと比較して低コストで利用するようになりました。ALDのさらに高い初期コストおよび運用コストも、予測期間中の原子層堆積市場の成長を抑制すると予想されます。

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