日本の物理蒸着市場調査レポート - 技術別（熱蒸発、スパッタリング、アーク蒸着法、イオンプレーティング、マグネトロンスパッタリング）；アプリケーション別；素材タイプ別ー日本の需要と供給の分析、成長予測、統計レポート 2026ー2035年

日本の物理蒸着市場の成長要因ー

• NEDOの半導体製造装置開発費補助金：NEDOは、日本政府の支援を受け、PVDなどの精密成膜装置をはじめとする半導体製造装置を含む次世代半導体製造装置の開発に積極的に貢献しています。この助成制度を通じて、国内の装置メーカーが革新的で生産能力を刷新し、その活用を促進することで、様々な産業分野における先進的な成膜技術の普及が促進されます。2024年3月発行のウォール・ストリート・ジャーナル紙によると、日本の産業政策は、先進的な半導体製造能力の構築に4,760億円の政府補助金を計上し、物理蒸着（PVD）装置などの先進的な薄膜装置を必要とするファブを支援し、PVD技術の導入と製造インフラの整備をさらに推進しました。さらに、この補助金制度は、重要な製造装置の輸入依存度を低減し、国内の半導体およびコーティング産業の安定供給を確保します。このプログラムは、成膜技術と薄膜技術の研究開発に重点を置くことでPVDシステムの普及促進に注力しており、産業のスループット、プロセス効率、材料性能の向上に貢献します。 NEDOの信頼できるデータは、日本の半導体装置基盤の強化に重点を置いた技術開発プロジェクト、特に成膜装置およびそれに関連する製造装置の先端技術に重点を置いていることを強調しています。これは、主要な成膜技術の試作段階から実用化段階までを支援する資金です。
• 機能性薄膜への産業界の注力分野：機能性薄膜は、電子機器製造、コーティング、光学用途、エネルギー利用の分野でPVDシステムの必要性が直接認識され、産業界で重視されています。自動車、電子機器、ヘルスケアなどの業界では高性能コーティングが求められており、高性能で正確な厚さ、組成、接着力を提供できる唯一のシステムはPVDです。例えば、高精度の薄膜解像度を備えた優れた積層セラミックコンデンサとRFコンポーネントを製造している村田製作所では、厚さ、組成、接着の一貫性を保証するためにPVD技術が採用されており、自動車、5G、ヘルスケアエレクトロニクスの高性能化に使用されています。NEDOの材料およびナノテクノロジープロジェクトに関する公式ファイルによると、機能性フィルムとナノ構造材料の研究開発は、産業アプリケーションにおける戦略的役割から、継続的に資金提供を受けています。

当社の日本の物理蒸着市場調査によると、以下はこの市場の課題です。

• 輸出書類作成にかかる高いコンプライアンスコスト：日本のPVD装置メーカーは、経済産業省の輸出管理要件への高いコンプライアンスレベルに伴う高いコンプライアンスコストに直面しています。輸出許可を取得するには、企業は徹底した最終用途および最終ユーザーテストの実施、装置の正確な分類、そして膨大な記録の提出が求められます。これらの管理諸経費は運用コストの増加とリードタイムの​​長期化を招き、結果として国際市場における国内サプライヤーとの競争力低下につながります。これは特に中小規模のPVDメーカーに深刻な影響を与えます。限られたリソースにより、書類作成やモニタリング要件の影響が大きくなるからです。結果として、海外市場への浸透が遅れ、収益の実現が遅れるだけでなく、他国の需要変動への対応力も低下し、日本のPVDセクター全体の成長が抑制されることになります。
• NEDOの資金提供は専門分野に集中：NEDOは半導体装置開発に資金援助を行っていますが、省エネエレクトロニクスやパワー半導体といった専門分野に資金が投入されることは珍しくありません。業界向け製品がそれほど専門的ではないPVDサプライヤーは、これらのプログラムへの参加が難しい場合があります。この差別的な資金提供戦略は、PVDのイノベーションと事業拡大のための資金調達を全体的に制限し、技術革新や新製品開発のペースを鈍化させます。小規模サプライヤーはより高い財務的負担に直面し、生産規模の拡大や増加する産業需要への対応が困難になります。その結果、市場全体の成長が制限され、より高度な成膜方法の導入が遅れ、日本の産業競争力の貢献度が低下する可能性があります。