世界の銅スパッタリングターゲット市場調査、規模、傾向のハイライト(予測2025-2037年)
世界の銅スパッタリングターゲット市場規模は、2024年に11億米ドルと評価され、2025―2037年の予測期間中に5.8%のCAGRで成長し、2037年末には21億米ドルに達すると予測されています。2025年には、銅スパッタリングターゲット市場は12億米ドルに達すると見込まれています。
半導体および集積回路の需要増加は、銅スパッタリングターゲット市場の成長の主な理由の一つです。銅は、優れた導電性、低消費電力、処理速度の向上により、アルミニウムに代わって集積回路や半導体に広く使用されています。AIチップ、5Gネットワーク、クラウドコンピューティングなどの技術の急速な発展に伴い、半導体産業は著しい拡大を遂げています。これにより、集積回路に使用される高品質の銅膜の需要が高まっています。
再生可能エネルギー源への世界的な推進は、太陽光発電セクターの急速な成長をもたらしました。銅スパッタリングターゲットは、太陽光を効率的に電気に変換する上で極めて重要な薄膜太陽電池の製造に使用されています。さらに、再生可能エネルギーへの関心の高まりと太陽光発電プロジェクトに対する政府の優遇措置により、太陽光パネルの生産が促進され、高品質の銅スパッタリングターゲットの需要が高まっています。
銅スパッタリングターゲット市場: 主な洞察
基準年 |
2024年 |
予測年 |
2025-2037年 |
CAGR |
5.8% |
基準年市場規模(2024年) |
11億米ドル |
予測年市場規模(2025年) |
12億米ドル |
予測年市場規模(2037年) |
21億米ドル |
地域範囲 |
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銅スパッタリングターゲット市場の域概要地
銅スパッタリングターゲット市場 – 日本の展望
銅スパッタリングターゲット市場は、先進的なエレクトロニクスおよび半導体産業に牽引され、予測期間中に大幅な成長が見込まれています。日本には、東京エレクトロン、ルネサス、キオクシアといった大手半導体メーカーが拠点を置き、高純度銅スパッタリングターゲットの需要を牽引しています。これらの主要企業は、次世代ロジックチップ、メモリデバイス、AI搭載プロセッサへの投資を進めています。さらに、戦略的提携や政府の支援も、スパッタリングターゲットにおける銅の使用を加速させています。TSMCやラピダスとの提携を含む、半導体再活性化に向けた政府の130億米ドルの投資は、高純度銅スパッタリングターゲットの需要をさらに押し上げています。
市場のもう一つの重要な推進力は、急速な技術進歩と国内チップ生産への投資です。これらの投資は、サプライチェーンを強化し、輸入への依存を減らすことを目的としています。5Gインフラの拡大とAI主導技術は、銅スパッタリングを用いた高性能半導体の需要を生み出しています。さらに、CIGS薄膜太陽電池などの再生可能エネルギー技術への日本の注力も、市場の成長を後押ししています。同国が半導体製造と次世代ディスプレイ生産における地位を強化するにつれ、銅スパッタリングターゲットの需要は大幅に増加すると予想されます。


サンプル納品物ショーケース

過去のデータに基づく予測
会社の収益シェアモデル
地域市場分析
市場傾向分析
市場傾向分析
北米市場分析:
2037年までに、北米は半導体および電子機器製造セクターの好調により、銅スパッタリングターゲット市場の40.0%のシェアを占め、市場をリードすると予想されています。5G、AI、データセンターの台頭に伴い、チップや先進ディスプレイ技術における高純度銅薄膜の需要が高まっています。CHIPS法(米国科学アカデミー紀要)に牽引された国内および半導体工場への積極的な投資は、銅ベースの配線の需要をさらに押し上げています。さらに、スマートフォン、AR/VRデバイス、電気自動車の普及拡大も、次世代エレクトロニクスにおける銅スパッタリングの需要を押し上げています。
米国の銅スパッタリングターゲット市場は、半導体製造、民生用電子機器、高性能コンピューティングの優位性により活況を呈しています。CHIPS法や科学アカデミー紀要などの政府の施策により、国内の半導体生産が加速し、集積回路、メモリチップ、先進マイクロプロセッサにおける高純度銅スパッタリングターゲットの需要が高まっています。 SIAによると、米国は半導体累計売上高の約46%を占めています。投資と研究開発の増加に伴い、米国は先端エレクトロニクスおよび銅スパッタリング用途におけるリーダーシップを強化しています。
カナダでは、銅スパッタリングターゲット市場は主にEVバッテリーの進歩、グリーンエネルギー技術、次世代コンシューマーエレクトロニクスによって拡大しています。カナダは電気自動車の生産とバッテリーの革新を推進しており、パワーエレクトロニクスや固体電池における銅ベースの薄膜の需要が増加しています。さらに、カナダはナノテクノロジーと先端ディスプレイ製造に多額の投資を行っており、OLEDスクリーン、量子ドットディスプレイ、エネルギー効率の高いスマートデバイスにおける銅スパッタリングの新たな機会を創出しています。例えば、2023年9月、バッテリー用電解銅箔製造のパイオニアであるVolta Energy Solutionsは、カナダのケベック州に製造工場を設立し、カナダ市場に参入しました。この工場は、北米の電気自動車バッテリーサプライチェーンにおける高品質銅箔の需要の高まりに対応することを目的としています。カナダでは、EVバッテリー生産とクリーンエネルギー技術への注目が高まり、高純度銅薄膜の需要が高まっています。この動きは、EVバッテリー技術の発展と銅スパッタリングターゲット市場における地位強化に向けたカナダのコミットメントを浮き彫りにしています。
アジア太平洋市場分析:
アジア太平洋地域は、半導体製造、ハイエンドエレクトロニクス、ディスプレイパネル製造における同地域のリーダーシップを背景に、2025―2037年に大きなシェアを獲得すると予想されています。中国、日本、韓国などの国々は、先進的なチップ技術やOLED製造に多額の投資を行っており、高純度銅ターゲットの需要を牽引しています。電気自動車や省エネ機器の急速な普及は、銅スパッタリング用途をさらに拡大させています。継続的な技術革新と強力な産業インフラを背景に、アジア太平洋地域は銅スパッタリングターゲット市場において世界で最も急成長を遂げている市場です。
中国の銅スパッタリングターゲット市場は、半導体およびハイテク製造における中国の優位性を加速させる中で拡大しています。国内チップ生産、AI駆動型コンピューティング、5G技術への多額の投資により、高純度銅薄膜の需要が高まっています。さらに、中国は再生可能エネルギーとEVバッテリーの進歩を推進しており、パワーエレクトロニクスにおける銅コーティングの使用が増加しています。政府の強力な支援と次世代エレクトロニクスにおける継続的な研究開発により、中国は世界の銅スパッタリングターゲット市場で重要なプレーヤーとなる可能性が高いです。
韓国の銅スパッタリングターゲット市場は、半導体メモリ、OLEDディスプレイ、高性能エレクトロニクスにおけるリーダーシップにより拡大しています。韓国は次世代半導体技術をリードしており、高速処理と微細化された回路には高純度銅薄膜が必要です。折りたたみ式ディスプレイ、6G研究、AI駆動デバイスの台頭により、ディスプレイおよびセンサー技術における銅スパッタリングターゲットの需要が高まっています。政府の取り組みと民間部門の研究開発に支えられ、韓国はハイテク材料とチップ製造のグローバルハブとしての役割を強化しています。
銅スパッタリングターゲット市場のセグメンテーション
アプリケーション別(半導体、太陽電池、液晶ディスプレイ)
銅スパッタリングターゲット市場における半導体分野は、AI、5G、車載エレクトロニクスにおける高性能チップの需要増加により、2037年までに48.5%という最大のシェアを占めると予想されています。半導体の需要は幅広い用途によって増加しており、最も需要の高い製品です。OECレポートによると、半導体デバイスは2023年に世界で21番目に取引量の多い製品となり、総取引額は1,550億米ドルに達しました。半導体メーカーが3nm以下の微細化ノードに移行するにつれ、高純度銅は相互接続や高度なパッケージングに不可欠なものになりつつあります。チップレット設計と異種集積化の進展により、銅スパッタリングを用いた精密な薄膜堆積の必要性がさらに高まっています。
小型化のトレンドにより、電子機器はより小型でポータブル、そしてより高性能になりつつあり、半導体の需要も高まっています。大手メーカーは、小型半導体チップの開発を競い合っています。例えば、2024年3月、Marvell Technology Inc.はTSMCと提携し、特に高速インフラ向け2nm半導体を開発する初の技術プラットフォームとなりました。日本、台湾、米国などの主要半導体拠点は国内チップ生産を増強しており、銅ターゲットの安定した需要を促進しています。ロジックチップ、メモリデバイス、高速コンピューティングの継続的な進歩により、銅スパッタリングターゲット市場は持続的な成長が見込まれています。
最終用途別(エレクトロニクス、自動車、航空宇宙・防衛、医療機器、再生可能エネルギー)
エレクトロニクス分野は、PCB、半導体、ディスプレイ技術への応用により、2037年まで約35.0%という大きな市場シェアを維持すると予想されています。ウェアラブル技術、AR/VRデバイス、IoTガジェットの台頭により、性能向上のための精密銅コーティングの需要が高まっています。5G、AI、高性能コンピューティングの拡大に伴い、より高度な銅スパッタリングターゲットのニーズが高まり、市場の成長余地が残されています。
銅スパッタリングターゲット市場の詳細な分析には、次のセグメントが含まれます。
セグメント |
サブセグメント |
アプリケーション別 |
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最終用途別 |
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タイプ別 |
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純度レベル別 |
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銅スパッタリングターゲット市場:成長要因と課題
銅スパッタリングターゲット市場の成長要因ー
- 民生用電子機器と先進ディスプレイ技術の成長:スマートフォン、ノートパソコン、タブレット、ゲーム機の需要の高まりにより、プリント基板(PCB)における銅ベースの薄膜の需要が高まっています。ウェアラブル技術、折りたたみ式・フレキシブルエレクトロニクス、AR/VRの台頭は、高品質で精密な銅コーティングの新たな機会を生み出しています。例えば、民生用電子機器と先進ディスプレイ技術の拡大を示す注目すべき最近の例として、サムスンが2025年3月に発表した新開発のディスプレイコンセプトが挙げられます。同社は、伸縮自在のスクリーン、折りたたみ式ゲーム機、ブリーフケースに収まるように折りたためるテレビを発表しました。
- 5GおよびAI技術の導入:5Gネットワークの普及とAIアプリケーションの開発には、高度な電子インフラが不可欠です。このインフラは高性能電子部品に大きく依存しており、銅スパッタリングターゲットの需要を促進しています。IEEE国際デバイス・システムロードマップが2023年に発表したレポートによると、AIとIoTの活用は半導体業界に革新をもたらしています。 IoTの統合により、ありふれたモノがスマートデバイスへと変貌し、経済機会が拡大する可能性があります。さらに、AIとIoTの統合により、2025年までに3.9兆米ドルから11.1兆米ドルの収益が創出されると予想されています。
当社の銅スパッタリングターゲット市場 調査によると、以下はこの市場の課題です。
- 高純度銅の供給制約と価格変動:99.9%または5Nといった高純度銅スパッタリングターゲットの製造には、精錬された原材料が必要ですが、これらは限られており高価です。銅価格は、採掘量の変動、地政学的要因、EVや建設業界などの世界的な需要により、非常に不安定です。さらに、地政学的緊張、貿易制限、原材料不足によるサプライチェーンの混乱は、製造に影響を与え、価格の安定を阻害します。
- 薄膜堆積における性能と廃棄物管理の問題:銅スパッタリングターゲットは摩耗が不均一になりやすく、材料の無駄や膜厚の不均一性につながり、半導体および電子機器の製造に影響を与えます。ターゲットを用いたリサイクルは、汚染や高純度銅の回収の複雑さのために困難です。したがって、ターゲットの利用効率を向上させ、新しいリサイクル技術を開発することが、コストと環境への影響を削減するために不可欠です。



ニュースで
- 2024年10月、DIC CorporationはUnitika Ltd.と提携し、新しいポリフェニレンサルファイド(PPS)フィルムを開発しました。このフィルムは高周波での信号損失を低減するため、次世代通信機器やレーダーシステムに使用されるミリ波プリント基板に最適です。
- 2024年1月、住友金属はロールツーロール方式のマグネトロンスパッタリングプロセスを用いた銅箔コーティング装置の開発に成功しました。この成果により、住友金属は複合材料および集電体向け真空装置市場における事業機会を拡大しました。また、リチウムイオン電池製造用の特殊真空装置の製造においても大きな進歩を遂げました。
- 2021年12月、JX Nippon Metals & Mining Corporationは需要の増加に対応するため、半導体用スパッタリングターゲットと処理圧延銅箔の生産能力を拡大しました。
- JX Nippon Mining & Metals Corporationは、2017年度から2019年度までの中期経営計画の方針に基づき、圧延銅箔、高機能銅合金条、半導体用スパッタリングターゲットの増産に向けた設備の増設を2020年6月に完了しました。
銅スパッタリングターゲット市場を席巻する企業

銅スパッタリングターゲット市場を席巻するトップ企業は、半導体、ディスプレイパネル、先進電子機器向けの高純度銅ターゲットの製造に特化しています。継続的な研究開発投資と技術革新により、高性能薄膜に対する世界的な需要の高まりに応える上で重要な役割を果たしています。
銅スパッタリングターゲット市場における主要企業は以下のとおりです。:
- Honeywell International Inc.
- 会社概要
- 事業戦略
- 主要製品提供
- 財務実績推移
- 主要業績評価指標
- リスク分析
- 最近開発
- 地域存在感
- SWOT分析
- Mitsubishi Materials Corporation
- JX Nippon Mining and Metals
- Able Target Limited
- Advanced Engineering Materials Limited
- American Elements
- Edgetech Industries Llc
- Jx Metals Corporation
- Konfoong Materials International Co., Ltd
- Kurt J. Lesker Company
- Nanoshel Llc.
- Otto Chemie Pvt. Ltd.
- Praxair Technology, Inc
- Safina Materials, Inc
- Testbourne Ltd
- Tosoh Smd, Inc
- Vacuum Engineering & Materials
目次
関連レポート
レポートで回答された主な質問
質問: 銅スパッタリングターゲット市場の世界的な見通しはどのようなものですか?
回答: 世界の銅スパッタリングターゲット市場は、2024年に11億米ドルの収益性の高い評価額を記録し、2025年から2037年の予測期間中に5.8%のCAGRで成長し、2037年には21億米ドルに達すると見込まれています。
質問: 世界的に見て、近い将来、世界の銅スパッタリングターゲット市場により多くのチャンスをもたらす地域はどこでしょうか?
回答: 2037年までに、北米が40.0%のシェアで銅スパッタリングターゲット市場を独占すると予想されています。銅スパッタリングターゲット市場は、半導体および電子機器製造部門の好調により拡大しています。
質問: 日本における銅スパッタリングターゲット市場は世界的にどのくらいの規模ですか?
回答: 日本の銅スパッタリングターゲット市場は、高度な電子機器および半導体産業のおかげで、予測期間である2025―2037年の間に収益性の高い収益成長を記録すると予測されています。
質問: 日本の銅スパッタリングターゲット市場を支配している主要企業はどれですか?
回答: 市場の主要プレーヤーは、Mitsubishi Materials Corporation、JX Nippon Mining and Metalsなどです。
質問: 日本の銅スパッタリングターゲット市場における最新の進歩は何ですか?
回答: 2021年12月、JX Nippon Metals & Mining Corporationは、需要の増加に対応するため、半導体用スパッタリングターゲットと処理圧延銅箔の生産を拡大しました。


